平面研磨抛光设备生产工艺流程

平面研磨抛光设备大致有以下7种生产工艺流程，每个流程都有控制精度要求，每个环节都必不可少，少一样都是能决定精度的好与坏。

1、平面研磨抛光设备平整度：

　　工件的平整度取决于磨盘的平整度，随着加工领域的不断深化及精度和效率要求越来越高：从铸铁盘、合成盘、铜盘、纯锡盘、树脂盘发展到金刚石盘，并通过各种方法把盘的平面订修到达1um。

2、平面研磨抛光设备粗糙度：

　　表面粗糙度取决于磨料颗粒的大小、形状和磨盘的材料， 以及工件材质及硬度。

3、平面研磨抛光机粗磨：

　　利用较粗颗粒度的磨料在磨盘与工件面上磨削，进刀量大、效率高;但磨削面较粗，适用于磨削余量较多之工作。

4、平面研磨抛光机中磨：

　　利用中度颗粒的磨料在磨盘与工件面上磨削，进刀量快、效率高，表面粗糙度适中，适合磨削量一般之工件。

5、平面研磨抛光设备精磨：

　　利用较细颗粒度的磨料在磨盘中与工件面上磨削，进刀量较小、表面光洁度好，磨削痕均匀而细。

6、平面研磨抛光机软抛光：

　　利用磨盘上加装一个特殊材料抛光垫或抛光布，抛光料在抛光垫或抛光布之间运动，使工件比硬抛光更有超镜子一样的高光洁度。

7、平面研磨抛光设备硬抛光：

　　利用合成盘、铜盘、锡盘、树脂盘等非常高精密度的基面加入微米级金刚石磨料，使工件表面变得既高精密平面度，又有像镜子一样的高光洁度。